Samsungs Exynos 9825 blir först att tillverkas på noden 7nm EUV

Undrar hur lång tid det kommer ta innan vi ser större kretsar på EUV noder, yields kommer vara bättre än DUV och fab time kommer nog också minska till 2-3 måndader istället för 3-4.

EUV minskar antalet processsteg markant (vilket är en av anledningarna alla vill ändra till det).

7nm med DUV (längst åt höger):

7nm med EUV (längst till höger):

Från 34 litografiska steg ner till 9 om man går med globalfoundries siffror (vilket ska ha liknat det TSMC kör med idag), plus att yields och hastigheter går upp generellt med massivt mindre kritiska rikningar för att matcha upp olika masker.

Även om EUV bara används för kritiska lager borde mängden litografiska spel minska till ungefär samma som för 14nm, med liknande fab time mest troligt.

Detta har dock ingen betydelse för mängden producerade wafers då detta beror på den maximala ljusdoseringen man kan köra med.

Jo, men även om vi skulle räkna 100 lager så går det ner till 75 om man räknar från 34 till 9 kritiska masker, vilket fortfarande är strax under 11nm enligt samma sida som du länkade (77), plus att det inte krävs lika hög precision att rikta in sig efter MOL (och de lagrena är enkel exponering ändå). Så i västa fall borde inte fab time ändå inte ta mer än kring 3 månader.

En annan aspekt är fabytan som tas upp av EUV verktyg, om man bara använder EUV där man i praktiken kan byta ut 5-6 DUV maskiner till en enda EUV maskin (dvs MOL lagret som är mest avancerat) så minskar den använda fabytan till ca hälften, vilket till viss del kommer minska den fysiska tid som det tar att transportera kretsarna mellan EUV verktygen.

7nm EUV är typ många bäckar stora istället för många bäckar små.